Intel – яркая звезда в полупроводниковой промышленности. Это одна из немногих компания в мире, имеющая не только возможность разрабатывать архитектуры, но и также производить готовые изделия на собственных мощностях. В конкретно производстве полупроводников цеха Intel всегда были передовые. Передовые техпроцессы и технологии – отсюда и первенство в индустрии. Теперь, как говорит Мехди Хоссейни (Mehdi Hosseini) из аналитической компании Susquehanna, Intel потеряла лидерство в производстве полупроводников.
Разработка 10 нм техпроцесса фактически превратилась в ад. И это на фоне того, что у конкурентов уже почти готовы 7 нм. Цифирное обозначение техпроцесса дело весьма относительное, его измеряют кому как удобно. Кто-то выводит среднее значение плотности размещения транзисторов, кто-то самое минимальное, применяемое в одном месте в чипе. Поэтому в теории ещё можно предположить, что 10 нм Intel технически более продвинуты и совершенны, чем 7 нм конкурентов.
Тем не менее, есть одна область, где Intel перестаёт быть передовиком: EUV-литография (Extreme UltraViolet), или сверхжёсткое ультрафиолетовое излучение – следующее поколение фотолитографии для производства ёмких микросхем по тонким техпроцессам. Samsung и TSMC стремятся к некоторому уровню интеграции EUV-литографии к 2019 году, у Intel же подобные мероприятия запланированы на 2021 год.
Времена меняются. TSMC – это компания, которая станет лидером в производстве полупроводников. Так во всяком случае считают аналитики. Изобилие богатых клиентов и готовый 7 нм техпроцесс под абсолютно любые типы микросхем выводят TSMC в лидеры.
Источник:
EETimes
