Руководители крупных китайских полупроводниковых компаний призвали власти страны координировать национальные проекты по разработке литографического оборудования в период 2026–2030 годов. Главная цель — повысить технологическую независимость Китая и создать собственный аналог ASML, единственного в мире поставщика EUV-литографических систем.
Необходимость объединения технологий
По словам представителей отрасли, китайские исследовательские центры уже достигли заметных успехов в отдельных направлениях — например, в разработке EUV-лазеров, оптических систем и технологий производства кремниевых пластин. Однако объединить все эти компоненты в полноценную литографическую установку пока не удалось.
Предполагается, что решение этой задачи станет одним из ключевых направлений 15-й пятилетки.
Среди наиболее слабых мест китайской полупроводниковой индустрии называются:
-
программное обеспечение для автоматизации проектирования микросхем (EDA),
-
производство кремниевых пластин,
-
выпуск специализированных электронных газов.
Эксперты считают, что развитие этих направлений требует централизованной поддержки и координации на национальном уровне.
Китай усиливает позиции на зрелых техпроцессах
Сейчас Китай активно развивает производство чипов по относительно зрелым техпроцессам 28 нм и выше. В этом сегменте страна уже контролирует около 33 % мирового рынка, обладая значительными возможностями как в разработке, так и в производстве микросхем.
Для ускорения прогресса специалисты предлагают создать открытые исследовательские платформы, где компании и научные учреждения смогут совместно работать над новыми архитектурами микросхем, оборудованием, материалами и программным обеспечением.
Технологическое противостояние с США
Статья, посвящённая развитию отрасли, была опубликована руководителями ряда ведущих компаний, включая Naura Technology Group, Yangtze Memory Technologies и Empyrean Technology.
С 2020 года полупроводниковая индустрия стала одной из ключевых сфер технологического противостояния между China и United States. Вашингтон ввёл ограничения на экспорт передовых технологий, чтобы замедлить развитие китайского производства чипов по техпроцессам менее 7 нм.
Почему так важна EUV-литография
Оборудование для EUV-литографии, выпускаемое ASML, считается одним из самых сложных технологических продуктов в мире. Одна такая система состоит примерно из 100 тысяч компонентов, поставляемых более чем 5000 компаниями.
Именно эти установки используются для производства самых передовых процессоров, применяемых в смартфонах, системах искусственного интеллекта и других высокопроизводительных вычислительных устройствах.
По мнению китайских экспертов, создание собственной «китайской ASML» требует объединения ресурсов государства, научных институтов и промышленности — без такого шага стране будет сложно преодолеть технологический барьер в производстве современных микросхем.
